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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品，而努力

Work hard to make your product

特殊工藝
  • 硅、玻璃表面微加工技術(shù)
    微結(jié)構(gòu)薄膜材料：二氧化硅、氮化硅、多晶硅；金屬薄膜：Al、Au、MO、W、Pt等。
  • 表面微加工犧牲層工藝
    常用犧牲層選擇有：PI、SiO2、Si、Cu等。
  • 體硅加工技術(shù)
    可利用刻蝕等工藝對(duì)塊硅進(jìn)行準(zhǔn)三維結(jié)構(gòu)的微加工，以形成所需要的硅微結(jié)構(gòu)。
  • 通孔制作技術(shù)
    硅通孔技術(shù)（TSV）、玻璃通孔技術(shù)（TGV）


案例展示


                            

                    RF MEMS Beam Solution                             TSV（Cu&Sn鍵合）Process                                  TGV Solution









為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用？
為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用？

2024-11-27

RIE是一種結(jié)合了物理濺射和化學(xué)反應(yīng)雙重機(jī)制的刻蝕技術(shù)。在等離子體中，離子和中性自由基共同作用于材料表面。其中，自由基的密度遠(yuǎn)高于離子，它們通...

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【半導(dǎo)體材料】電子封裝材料有哪些？
【半導(dǎo)體材料】電子封裝材料有哪些？

2024-11-29

電子封裝材料作為連接芯片與外部世界的橋梁，其重要性不言而喻。合格的封裝不僅能夠?yàn)樾酒峁┪锢肀Ｗo(hù)，實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格化的互連，更是確保電子產(chǎn)品性能...

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【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù)，你知道的有哪些？
【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù)，你知道的有哪些？

2024-11-04

本文將詳細(xì)介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備，是智能制造加速器還是成本黑洞？
【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備，是智能制造加速器還是成本黑洞？

2024-11-05

在半導(dǎo)體芯片制造中，從原材料處理到最終封裝測(cè)試，整個(gè)流程涉及上千道工序，每一環(huán)節(jié)都需要精確控制，以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展，...

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