離子鍍是一種在真空環(huán)境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化，沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。 

離子鍍工藝出現(xiàn)于上世紀(jì)70年代，是一種新型的真空鍍膜工藝，離子鍍目的也是為了在產(chǎn)品表面鍍上一層防腐蝕層，以防止產(chǎn)品生銹。

離子鍍技術(shù)雖然出現(xiàn)的時(shí)間短，但應(yīng)用卻很廣泛，可以用于日常用品，工藝品，航天航空以及光學(xué)器件等工業(yè)領(lǐng)域。 

離子鍍的特點(diǎn) 

用離子鍍工藝后的產(chǎn)品鍍層質(zhì)量非常好，離子鍍的鍍層組織致密，并且不會(huì)出現(xiàn)針孔，氣泡等常規(guī)鍍層所出現(xiàn)的這些問題，產(chǎn)品表面鍍層厚薄均勻，甚至可以在有凹槽或者菱角的不規(guī)則產(chǎn)品表面離子鍍膜。 

離子鍍工藝還可以起到對(duì)產(chǎn)品修復(fù)的作用，一些產(chǎn)品表面出現(xiàn)的裂紋以及麻點(diǎn)等細(xì)小缺陷，通過(guò)離子鍍后，能夠有效的改善產(chǎn)品表面質(zhì)量，并且還能提高產(chǎn)品的物理和機(jī)械性能。

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)物質(zhì)都會(huì)在真空電場(chǎng)環(huán)境中以電力線方向運(yùn)動(dòng)，所以只要有電場(chǎng)存在，產(chǎn)品的每個(gè)部位就都能獲得良好的鍍層，而這與其它鍍膜工藝只能通過(guò)直射方式才能獲得鍍層要更有優(yōu)勢(shì)。

所以，這就讓那些需要在孔內(nèi)，凹槽或者是縫隙等，傳統(tǒng)上難鍍的部位也能夠高質(zhì)量的鍍膜，以此也能提高整個(gè)產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們知道很多傳統(tǒng)鍍膜工藝，在鍍膜前都需要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行多次的表面清洗除油，才能獲得高質(zhì)量的鍍膜層，這些鍍前工序費(fèi)時(shí)費(fèi)力還不環(huán)保。 

離子鍍工藝是通過(guò)轟擊實(shí)現(xiàn)鍍膜的，而這種轟擊就具有清洗功能，并且這種轟擊清洗功能會(huì)持續(xù)整個(gè)鍍膜過(guò)程，所以，離子鍍不再需要前期對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行清洗工序，還能有效提高鍍膜層的附著力。 

在整個(gè)離子鍍過(guò)程中，需要鍍膜的產(chǎn)品并不會(huì)受到高溫的影響，這就讓離子鍍的應(yīng)用范圍變得非常廣泛，很多材料都可以使用這種工藝，例如說(shuō)各種金屬，合金材料外，還可以對(duì)塑料，橡膠，陶瓷以及大理石等材料進(jìn)行離子鍍。